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機構	日期	題名	作者
國立交通大學	2015-11-26T01:02:43Z	利用原子層沉積技術在不同溫度下製作氧化鋁/鍺金氧半元件之研究	林立騫; Lin,Li-Chien; 楊斯博; 鄭鴻祥; Yang, Zu-Po; Yang, Hung-Hsiang

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