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机构 日期 题名 作者
國立臺灣大學 2005 以0.18-μm CMOS製程製作之10-Gb/s等化器 邱大為; Chiu, Da-Wei
國立成功大學 2002-06-28 射頻濺鍍法生長鉍鑭鈦鎢薄膜及其鐵電性質研究 邱大為; Chiu, Ta-Wei
國立成功大學 2002-06-28 射頻濺鍍法生長鉍鑭鈦鎢薄膜及其鐵電性質研究 邱大為; Chiu, Ta-Wei

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