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機構	日期	題名	作者
國立交通大學	2014-12-16T06:13:46Z	利用四氟化碳電漿預處理改善高介電材料特性之製程	雷添福; 張子云; 陳筱薇
國立交通大學	2014-12-13T10:51:08Z	新式結構與高介電常數閘極介電層在複晶矽薄膜電晶體之應用(I)	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:48:43Z	新式結構與高介電常數閘極介電層在複晶矽薄膜電晶體之應用(II)	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:46:15Z	應用於深次微米CMOS元件之閘極氧化層與複晶矽介電層之技術開發	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:39:31Z	使用UHV/CVD低溫成長複晶矽於次微米元件之應用	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:39:03Z	以UHV/CVD低溫成長複晶薄膜及其金屬矽化物於次微米元件之應用	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:37:13Z	深次微米CMOS元件之複晶矽介電層與閘極氧化層之技術開發	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:36:40Z	參加1998國際電子元件材料會議	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:35:30Z	MOS元件之閘極層介電材料之技術開發與清潔溶液對複晶矽薄膜經化學機械研磨之研發	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:35:29Z	矽化物超淺接面和接觸孔研發	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:34:47Z	微電子學門赴歐參訪	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:34:37Z	奈米MOS元件之矽化物、超淺接面及接觸孔之研發(I)	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:33:37Z	電漿處理應用在超大型積體電路上高介電常數閘極絕緣層之研究	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:33:03Z	奈米MOS元件之矽化物、超淺接面及接觸孔之研發(II)	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:32:14Z	新式結構與四氟化碳電漿處理在複晶矽薄膜電晶體應用之研究	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:31:24Z	奈米MOS元件之矽化物、超淺接面及接觸孔之研發(III)	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:30:50Z	應用於深次微米CMOS元件與薄膜電晶體之製程技術開發	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:30:26Z	新式低溫複晶矽薄膜電晶體之結構與技術在電抹除可程式唯讀記憶體的應用(I)	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:30:20Z	高介電常數奈米微晶粒材料之研究與記憶體元件之製作(I)	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:29:57Z	新式低溫複晶矽薄膜電晶體之結構與技術在電抹除可程式唯讀記憶體的應用(II)	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:29:23Z	高介電常數奈米微晶粒材料之研究與記憶體元件之製作(II)	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:28:31Z	高介電常數奈米微晶粒材料之研究與記憶體元件之製作(III)	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-13T10:28:26Z	新式低溫複晶矽薄膜電晶體之結構與技術在電抹除可程式唯讀記憶體的應用(III)	雷添福; LEI TAN-FU
國立交通大學	2014-12-12T03:03:28Z	應用新穎微影及奈米微晶粒技術於奈米元件與記憶體之研究	游信強; 雷添福; 柯富祥
國立交通大學	2014-12-12T03:03:24Z	氧化鈰奈米微晶粒非揮發性記憶體元件之研究	楊紹明; Shao-Ming Yang; 雷添福; 簡昭欣; Tan-Fu Lei; Chao-Hsin Chien

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