| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:30:43Z |
利用離子佈植/電漿植入於矽化鎳 N+/P 接面與複晶矽鍺閘極之研究
|
李美錡; Mei-Chi Lee; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:30:38Z |
利用氟氮摻雜與低溫電漿處理在奈米金氧半電晶體元件製程上的應用
|
張子云; Chang Tzu Tun; 雷添福; Lei Tan Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:28:05Z |
非晶矽覆蓋層形成超淺接面在奈米MOS元件之應用
|
溫凰君; Huang-Chun Wen; 雷添福; Tan Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:28:05Z |
氨氣預處理及不同後續退火技術改善銫金屬氧化層之研究
|
洪燕萍; Yen-ping Hung; 雷添福; Dr. Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:28:05Z |
四氟化碳電漿處理改善閘極絕緣層特性在MOS元件之研究
|
陳筱薇; Hsiao-Wei Chen; 雷添福; Dr. Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:28:03Z |
二矽烷複晶矽薄膜及四氟化碳電漿預處理技術在製備薄氧化層之研究
|
李介文; Jam Wem Lee; 李崇仁; 雷添福; Chung_Len Lee; Tan Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:25:33Z |
延遲烘烤效應與新開發聚焦圖像在深紫外光微影技術之應用
|
古進譽; Chin-Yu Ku; 雷添福; Tan Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:25:33Z |
垂直式結構複晶矽氧化層之研究
|
張延安; Yen-An Chang; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:25:33Z |
薄（≦6.0nm）氮氧化矽層之製備藉由N2O電漿回火處理
|
郭良泰; Liang-Tai Kuo; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:25:33Z |
Ti/NiSi/Si及TiN/NiSi/Si堆疊結構
|
陳朝欽; Chen Chao-Chin; 雷添福; Lei Tan-Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:25:24Z |
研發特殊清洗溶液及高介電常數閘極介電層在超大型積體電路上之應用
|
潘同明; Tung-Ming Pan; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:23:51Z |
複晶矽薄膜電晶體之製程與可靠度之研究
|
桑任逸; Jen-Yi Sang; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:23:47Z |
高介電常數氧化鐠閘極介電層與新穎結構於複晶矽薄膜電晶體之研究
|
張家文; Chia-Wen Chang; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:23:29Z |
低溫複晶矽薄膜電晶體負偏壓溫度不穩定與天線效應之研究
|
陳志仰; 雷添福 |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:23:24Z |
利用氟和/或氮離子佈植於矽化鈷堆疊閘極氧化層之特性研究
|
郭立民; Lim-Min Guo; 雷添福; 楊賜麟; Dr. Tan-Fu Lei; Dr. Su-Lin Yang |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:23:20Z |
氫氟酸氣態清洗及氮摻雜於閘極氧化層與複晶矽氧化層之應用
|
陳建亨; Jiann Heng Chen; 雷添福; 趙天生; Tan Fu Lei; Tien Sheng Chao |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:23:13Z |
利用 N2O 與 N2 氣體快速加熱氮化於 PECVD TEOS閘極氧化層及複晶矽氧化層之研究
|
朱浚學; Juing-Shae Chu; 雷添福; 李崇仁; Dr. Tan-Fu Lei; Dr. Chung-Len Lee |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:23:13Z |
應用於ULSI成長氧化層前及化學機械研磨後的新溶液清洗
|
邱子寰; Tzu-Huan Chiu; 雷添福; Tan Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:23:13Z |
疊形複晶矽結構在閘極氧化層與金屬矽化物之可靠度研究
|
林信翔; Shen-Xiang, Lin; 雷添福; Tan-Fu, Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:20:50Z |
利用CVD TEOS 在二矽烷複晶矽和堆疊結構複晶矽薄膜上沈積氧化層之特性分析
|
陳萬得; Won-Der Chen; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:20:50Z |
化學機械研磨技術和N2O退火對複晶矽氧化層特性之影響
|
陳建宏; Jian-Hong Chen; 雷添福; Tan Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:19:49Z |
積體電路感測器之金氧半磁場感測器
|
楊鴻銘; 雷添福 |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:18:23Z |
金屬層間介電層和複晶矽介電層之研究及其對深次微米元件之影響
|
林友民; 雷添福 |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:18:19Z |
Low-Temperature (≦700℃) Fabrication of Interpolysilicon Oxide and Its Impact on Tunnel Oxide
|
陳鴻祺; Chen, Hong-Qi; 雷添福; Lei, Tian-Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:17:36Z |
分裂閘極式可抹除編寫記憶晶胞之編寫能力特性研究
|
楊理揚; YANG, LI-YANG; 雷添福; Dr. Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:17:36Z |
晶片表面潔淨與閘極結構對閘極氧化層影響之研究
|
何樂群; Ho, Leh_Chyung; 雷添福; Lei Tan-Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:17:33Z |
矽化鈦閘極結構對薄閘極氧化層的影響
|
楊鐙祺; Yang, Dan-Chi; 雷添福; Lei Tan-Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:17:32Z |
磁場感測器之研究
|
陳怡如; Chen, Yi-Ru; 雷添福; Lei Tan-Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:17:28Z |
探討晶片表面潔淨與閘極結構對閘極氧化層之影響
|
何樂群; Ho, Leh_Chyung; 雷添福; Lei Tan-Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:17:28Z |
低溫化複晶矽氧化層之製程及其在穿隧氧化層之影響
|
陳鴻祺; Chen, Hong-Chi; 雷添福; Lei Tan-Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:17:22Z |
化學機械研磨在溝槽絕緣及複晶矽氧化層之應用
|
鄭俊一; Cheng, Juing-Yi; 雷添福; Tan Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:17:22Z |
先進矽化鈦技術在超大型積體電路上之應用
|
黃正同; Huang, Cheng Tung; 雷添福; Tan Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:16:27Z |
FABRICTAION OF LOW TEMPERATURE（≦600℃）THIN-FILM TRANSISTORS WITH POLYSILICON FILMS GROWN BY LPCVD FROM GAS
|
張正佶; Zhang, Zheng-Ji; 雷添福; Lei, Tian-Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:16:09Z |
N2O氣體於深次微米金氧半場效電晶體及複晶矽氧化層之應用
|
賴朝松; Lai, Chao-Song; 雷添福; 李崇仁; Lei, Tian Fu; Li, Chong-Ren |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:16:09Z |
閘極氧化層可靠性之分析與應用於表面通道P型金氧半場效電晶體之閘極工程
|
林永豪; Lin, Yung-Hao; 李崇仁; 雷添福; Lee, Chung-Len; Lei, Tan-Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:15:38Z |
化學機械研磨機對複晶矽氧化層之應用
|
蕭世楹; Shiau, Shyh Yin; 雷添福; Dr. Tan Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:15:32Z |
以Si2H6低壓氣相沉積之複晶矽研製低溫 (<=600℃)薄膜電晶體
|
張正佶; Chang, Cheng-Jyi; 雷添福; Lei Tan-Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:15:30Z |
用N2O成長複晶矽氧化層的效應
|
陳建堯; Chen, Gen-Yao; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:13:49Z |
鍺離子佈植對矽化鈦淺接面效應之研究
|
徐新惠; Shin-Huey Shvu; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:13:49Z |
矽化鈦/鈦矽硼雙合金層的形成與其應用
|
林永昌; Yung- Cang Lin; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:13:48Z |
CMP平坦化製程對元件特性之效應
|
胡鈞屏; Jyng-Ping Hwu; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:13:40Z |
以超高真空化學氣相沉積系統成長矽硼層在超大型積體電路之應用
|
陳東波; Tung-Po Chen; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:58Z |
利用N2O氧化物及疊形非晶矽結構(SAS)抑制P+多晶矽閘中Boron的穿透效應
|
王泉富; Wang, Quan-Fu; 雷添福; Lei, Tian-Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:48Z |
耦合量子井的光電特性及其在光電元件方面的應用
|
黃益民; Huang, Yi Min; 連振炘; 雷添福; Lian, Zhen Xin; Lei, Tian Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:48Z |
複晶矽薄膜電晶體製程及特性之研究
|
陳宏男; Chen, Hong Nan; 李崇仁; 雷添福; Li, Chong Ren; Lei, Tian Fu |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:12Z |
使用沉積矽化鎢與複晶矽和非晶矽結構形成之複晶矽化鎢閘極之研究
|
廖修漢; Shiou-Hann Liaw; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:11Z |
電荷耦合元件的電荷傳遞與邊際電場效應之理論分析
|
吳炳昌; Bin-Chang Wu; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:10Z |
利用Ｎ２Ｏ氧化物及疊型非晶矽結構(ＳＡＳ)抑制ｐ＋多晶矽閘中Ｂｏｒｏｎ的穿透效應
|
王泉富; Chuan-Fu Wang; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:10Z |
以低壓化學氣相沉積法ＴＥＯＳ製成之薄閘極氧化層之研究
|
林震賓; Chen-Bin Lin; 雷添福; Tan-Fu Lei |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:10Z |
利用複晶矽或矽化鈦含非晶矽緩衝層當擴散源形成矽化鈦淺接面之研究
|
謝聰敏; Tsong-Min Shieh; 雷添福; Tan-Fu Lei |
