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機構 日期 題名 作者
國立交通大學 2014-12-12T02:30:43Z 利用離子佈植/電漿植入於矽化鎳 N+/P 接面與複晶矽鍺閘極之研究 李美錡; Mei-Chi Lee; 雷添福; Tan-Fu Lei
國立交通大學 2014-12-12T02:30:38Z 利用氟氮摻雜與低溫電漿處理在奈米金氧半電晶體元件製程上的應用 張子云; Chang Tzu Tun; 雷添福; Lei Tan Fu
國立交通大學 2014-12-12T02:28:05Z 非晶矽覆蓋層形成超淺接面在奈米MOS元件之應用 溫凰君; Huang-Chun Wen; 雷添福; Tan Fu Lei
國立交通大學 2014-12-12T02:28:05Z 氨氣預處理及不同後續退火技術改善銫金屬氧化層之研究 洪燕萍; Yen-ping Hung; 雷添福; Dr. Tan-Fu Lei
國立交通大學 2014-12-12T02:28:05Z 四氟化碳電漿處理改善閘極絕緣層特性在MOS元件之研究 陳筱薇; Hsiao-Wei Chen; 雷添福; Dr. Tan-Fu Lei
國立交通大學 2014-12-12T02:28:03Z 二矽烷複晶矽薄膜及四氟化碳電漿預處理技術在製備薄氧化層之研究 李介文; Jam Wem Lee; 李崇仁; 雷添福; Chung_Len Lee; Tan Fu Lei
國立交通大學 2014-12-12T02:25:33Z 延遲烘烤效應與新開發聚焦圖像在深紫外光微影技術之應用 古進譽; Chin-Yu Ku; 雷添福; Tan Fu Lei
國立交通大學 2014-12-12T02:25:33Z 垂直式結構複晶矽氧化層之研究 張延安; Yen-An Chang; 雷添福; Tan-Fu Lei
國立交通大學 2014-12-12T02:25:33Z 薄(≦6.0nm)氮氧化矽層之製備藉由N2O電漿回火處理 郭良泰; Liang-Tai Kuo; 雷添福; Tan-Fu Lei
國立交通大學 2014-12-12T02:25:33Z Ti/NiSi/Si及TiN/NiSi/Si堆疊結構 陳朝欽; Chen Chao-Chin; 雷添福; Lei Tan-Fu

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