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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2018-01-24T07:38:24Z	藉低壓化學氣相沉積成長氮化矽鈍化層改善氮化鎵高電子遷移率電晶體直流與高頻特性之研究	高仲均; 張翼; Kao, Chung-Chun; Chang, Edward-Yi

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