English  |  正體中文  |  简体中文  |  總筆數 :2828147  
造訪人次 :  32114442    線上人數 :  1288
教育部委託研究計畫      計畫執行:國立臺灣大學圖書館
 
臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)
關於TAIR

瀏覽

消息

著作權

相關連結

"alian a"的相關文件

回到依作者瀏覽
依題名排序 依日期排序

顯示項目 1-3 / 3 (共1頁)
1 
每頁顯示[10|25|50]項目

機構 日期 題名 作者
國立交通大學 2020-10-05T02:01:28Z CMOS-compatible GaN-based devices on 200mm-Si for RF applications: Integration and Performance Fleetwood, D. M.; Wambacq, P.; Zhao, M.; Parvais, B.; Waldron, N.; Collaert, N.; Chang, S.; Simoen, E.; Zhao, S. E.; De Jaeger, B.; Peralagu, U.; Alian, A.; Putcha, V.; Khaled, A.; Rodriguez, R.; Sibaja-Hernandez, A.
臺大學術典藏 2019-12-27T07:49:25Z Low interfacial trap density and sub-nm equivalent oxide thickness in In0.53Ga0.47As (001) metal-oxide-semiconductor devices using molecular beam deposited HfO2/Al2O3 as gate dielectrics Chu, L.K.;Merckling, C.;Alian, A.;Dekoster, J.;Kwo, J.;Hong, M.;Caymax, M.;Heyns, M.; Chu, L.K.; Merckling, C.; Alian, A.; Dekoster, J.; Kwo, J.; Hong, M.; Caymax, M.; Heyns, M.; MINGHWEI HONG
臺大學術典藏 2018-09-10T08:40:14Z Low interfacial trap density and sub-nm equivalent oxide thickness in In0. 53Ga0. 47As (001) metal-oxide-semiconductor devices using molecular beam deposited HfO2/Al2O3 as gate dielectrics Chu, LK;Merckling, C;Alian, A;Dekoster, J;Kwo, J;Hong, M;Caymax, M;Heyns, Marc; Chu, LK; Merckling, C; Alian, A; Dekoster, J; Kwo, J; Hong, M; Caymax, M; Heyns, Marc; MINGHWEI HONG

顯示項目 1-3 / 3 (共1頁)
1 
每頁顯示[10|25|50]項目