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機構	日期	題名	作者
國立臺灣科技大學	2019	The effect of RF sputtering conditions on the physical characteristics of deposited GeGaN thin film	Thao, C.P.;Kuo, D.-H.;Anh, Tuan T.T.;Tuan, K.A.;Vu, N.H.;Via, Sa Na T.T.;Van, Nhut K.;Van, Sau N.
國立臺灣科技大學	2015	Characteristics of RF reactive sputter-deposited Pt/SiO2/n-InGaN MOS Schottky diodes	Anh Tuan, T.T.;Kuo, D.-H.

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