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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2014-12-12T02:17:37Z	薄氧化層的電子特性	張慈; Chang, Tsu; 蔡中, 荊鳳德; C.Tsai, Albert Chin
國立交通大學	2014-12-12T02:17:23Z	以SiH2Cl2成長之選擇性磊晶	高永信; Kao, yung-shin; 蔡中, 荊鳳德; C. Tsai, Albert Chin
國立交通大學	2014-12-12T02:17:23Z	BESOI的製作	林政男; Lin, Cheng-Nan; 蔡中, 荊鳳德; C. Tsai, Albert Chin

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