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机构 日期 题名 作者
國立交通大學 2014-12-08T15:44:33Z Effect of aluminum seed layer on the crystallographic texture and electromigration resistance of physical vapor deposited copper interconnect Chin, YL; Chiou, BS; Wu, WF
國立交通大學 2014-12-08T15:42:26Z Effect of the tantalum barrier layer on the electromigration and stress migration resistance of physical-vapor-deposited copper interconnect Chin, YL; Chiou, BS; Wu, WF
國立交通大學 2014-12-08T15:40:02Z Effects of underlayer dielectric on the thermal characteristics and electromigration resistance of copper interconnect Chin, YL; Chiou, BS
國立交通大學 2014-12-08T15:26:43Z A fair scheduling algorithm with adaptive compensation in wireless networks Wang, KC; Chin, YL

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