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机构 日期 题名 作者
國立交通大學 2014-12-08T15:42:23Z Stacked-NMOS triggered silicon-controlled rectifier for ESD protection in high/low-voltage-tolerant I/O interface Ker, MD; Chuang, CH
國立交通大學 2014-12-08T15:42:10Z Electrostatic discharge protection design for mixed-voltage CMOS I/O buffers Ker, MD; Chuang, CH
國立交通大學 2014-12-08T15:38:30Z On-chip ESD protection design with substrate-triggered technique for mixed-voltage I/O circuits in subquarter-micrometer CMOS process Ker, MD; Lin, KH; Chuang, CH
國立交通大學 2014-12-08T15:27:05Z The electronic structure and optical properties of phosphorus implanted GaN films Shu, CK; Lee, WH; Huang, HY; Chuang, CH; Chen, WK; Chen, WH; Lee, MC
國立交通大學 2014-12-08T15:27:01Z Effects in carrier dynamics of Isolectronic In doped in GaN films grown by metalorganic vapor phase epitaxy Huang, HY; Shu, CK; Lin, WC; Liao, KC; Chuang, CH; Lee, MC; Chen, WH; Chen, WK; Lee, YY
國立交通大學 2014-12-08T15:26:45Z ESD implantations in 0.18-mu m salicided CMOS technology for on-chip ESD protection with layout consideration Ker, MD; Chuang, CH
國立交通大學 2014-12-08T15:26:43Z Layout design on multi-finger MOSFET for on-chip ESD protection circuits in a 0.18-mu m salicided CMOS process Ker, MD; Chuang, CH; Lo, WY
國立交通大學 2014-12-08T15:26:38Z ESD protection circuits with novel MOS-bounded diode structures Ker, MD; Chuang, CH
國立交通大學 2014-12-08T15:26:34Z ESD protection design for mixed-voltage I/O circuit with substrate-triggered technique in sub-quarter-micron CMOS process Ker, MD; Chuang, CH; Hsu, KC; Lo, WY
國立交通大學 2014-12-08T15:26:21Z MOS-bounded diodes for on-chip ESD protection in a 0.15-mu m shallow-trench-isolation salicided CMOS process Ker, MD; Lin, KH; Chuang, CH

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