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机构	日期	题名	作者
臺大學術典藏	2018-09-10T07:29:09Z	Constant bias-temperature and constant charge-temperature agings for silicon oxide films of MOS devices	Hwu, J.-G.;Chuang, J.-B.;Fu, S.-L.; Hwu, J.-G.; Chuang, J.-B.; Fu, S.-L.; JENN-GWO HWU
國立臺灣大學	1989	Constant Bias-Temperature and Constant Charge-Temperature Agings for Silicon Oxide Films of MOS Devices	胡振國; Chuang, J. B.; Fu, S. J.; Hwu, Jenn-Gwo; Chuang, J. B.; Fu, S. J.

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