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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2019-04-02T06:04:29Z	Reliability Improvement of HfO2/SiON Gate Stacked nMOSFET using Fluorinated Silicate Glass Passivation Layer	Hsieh, Chih-Ren; Chen, Yung-Yu; Chung, Jer-Fu; Lou, Jen-Chung
國立交通大學	2014-12-08T15:17:54Z	Reliability Improvement of HfO(2)/SiON Gate Stacked nMOSFET using Fluorinated Silicate Glass Passivation Layer	Hsieh, Chih-Ren; Chen, Yung-Yu; Chung, Jer-Fu; Lou, Jen-Chung

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