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机构 日期 题名 作者
國立交通大學 2015-12-02T02:59:13Z Impact of the TiN barrier layer on the positive bias temperature instabilities of high-k/metal-gate field effect transistors Huang, Da-Cheng; Gong, Jeng; Huang, Chih-Fang; Chung, Steve S.
國立交通大學 2015-11-26T01:07:58Z 運用隨機電報訊號方法分析三閘極電晶體的多層級氧化層陷阱 蔡侑璉; Tsai, You-Lian; 莊紹勳; Chung, Steve S.
國立交通大學 2015-11-26T01:06:42Z 二氧化鉿電阻式記憶體多位元操作之隨機電報雜訊分析 黃英傑; Huang, Ying-Jie; 莊紹勳; Chung, Steve S.
國立交通大學 2015-07-21T08:31:06Z Gate Current Variation: A New Theory and Practice on Investigating the Off-State Leakage of Trigate MOSFETs and the Power Dissipation of SRAM Hsieh, E. R.; Lin, S. T.; Chung, Steve S.; Huang, R. M.; Tsai, C. T.; Jung, L. T.
國立交通大學 2014-12-16T06:15:13Z Structure and process of basic complementary logic gate made by junctionless transistors Chung Steve S.; Hsieh E. R.
國立交通大學 2014-12-13T10:51:52Z 張力型矽鍺奈米CMOS元件通道工程及可靠性關鍵問題研究(III) 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:51:36Z 高速操作及高資料保存特性SONOS型式快閃記憶體之研究 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:51:21Z 混合基片奈米CMOS元件技術中各種應力效應對傳輸特性及可靠性影響的研究 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:49:40Z 下一世代高性能及高可靠性的N通道MOS元件設計及量測技術探討 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:49:26Z 利用氘化及氮化處理製備高可靠性薄閘氧化層深次微米NMOS元件 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:49:24Z 用於快閃式記憶元件及電路性能與可靠性模擬的元件模式 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:48:12Z 混合基片奈米CMOS元件技術中各種應力效應對傳輸特性及可靠性影響的研究 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:48:01Z 高性能先進三維閘極CMOS應變元件設計-元件至電路的考量 (II) 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:46:04Z 奈米CMOS元件不均勻、雜和氧化層缺陷導致臨限電壓變異之研究(I) 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:45:16Z 下一世代高性能及高可靠性的N通道MOS元件設計及量測技術探討 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:43:18Z 先進奈米應力結構CMOS元件性能與可靠性變異之研究 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:42:09Z 下一世代高性能及高可靠性的N通道MOS元件設計及量測技術探討 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:41:33Z 先進奈米應力結構CMOS元件性能與可靠性變異之研究 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:40:23Z 次微米MOS元件在非熱平衡下含氧化層傷害之熱電子閘極電流模式 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:39:39Z EPROM記憶元件中熱電子效應的可靠性研究 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:39:34Z 先進低電壓低功率及高效能快閃式記憶體之研究(I) 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:39:32Z 高介電閘氧化層深次微米MOS元件電漿製程傷害可靠性之研究 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:39:22Z 次微米MOS元件中反向短通道效應特性分析與模式 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:39:09Z 具有反向短通道效應N型MOS元件性能及可靠性的研究 莊紹勳; Chung Steve S
國立交通大學 2014-12-13T10:39:03Z 快閃式記憶元件熱電子效應的可靠性分析 莊紹勳; Chung Steve S

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