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國立交通大學	2014-12-08T15:10:30Z	Crucial integration of high work-function metal gate and high-k blocking oxide on charge-trapping type flash memory device	Tsai, Ping-Hung; Chang-Liao, Kuei-Shu; Yang, Dong-Wei; Chung, Yuan-Bin; Wang, Tien-Ko; Tzeng, P. J.; Lin, C. H.; Lee, L. S.; Tsai, M. J.; Chin, Albert

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