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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2014-12-08T15:28:02Z	Suppressing Device Variability by Cryogenic Implant for 28-nm Low-Power SoC Applications	Yang, C. L.; Tsai, C. H.; Li, C. I.; Tzeng, C. Y.; Lin, G. P.; Chen, W. J.; Chin, Y. L.; Liao, C. I.; Chan, M.; Wu, J. Y.; Hsieh, E. R.; Guo, B. N.; Lu, S.; Colombeau, B.; Chung, S. S.; Chen, I. C.

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