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机构	日期	题名	作者
國立成功大學	2022-05	Linking Room- and Low-Temperature Electrical Performance of MOS Gate Stacks for Cryogenic Applications	Kao;K-H;Godfrin;C;Elsayed;A;Li;R;Simoen;E;Grill;A;Kubicek;S;Radu;I, P.;Govoreanu;B

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