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| 國立臺灣大學 |
1994 |
Selective Area Epitaxy for Optoelectronic Devices
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王玉麟; Temkin, H.; Hamm, R. A.; Feygenson, A.; Ritter, D.; Harriott, L. R.; Wang, Yuh-Lin; Temkin, H.; Hamm, R. A.; Feygenson, A.; Ritter, D.; Harriott, L. R. |
| 國立臺灣大學 |
1993 |
Nanofabrication on InP Using Focused Ion Beam Lithography and Chlorine Etching:Process and Control
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王玉麟; Chu, C. H.; Hsieh, Y. F.; Harriott, L. R.; Wade, H. H.; Temkin, H.; Hamm, R. A.; Wang, Yuh-Lin; Chu, C. H.; Hsieh, Y. F.; Harriott, L. R.; Wade, H. H.; Temkin, H.; Hamm, R. A. |
| 國立臺灣大學 |
1991 |
Focused Ion Beam Vacuum Lithography of InP with an Native Oxide Resist
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王玉麟; Temkin, H.; Harriott, L. R.; Hamm, R. A.; Wang, Yuh-Lin; Temkin, H.; Harriott, L. R.; Hamm, R. A. |
| 國立臺灣大學 |
1991 |
Nanometer Scale Focused Ion Beam Vacuum Lithography Using an Ultrathin Native Oxide Resist
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王玉麟; Harriott, L. R.; Temkin, H.; Chu, C. H.; Hseih, Y. F.; Hamm, R. A.; Panish, M. B.; Wade, H. H.; Wang, Yuh-Lin; Harriott, L. R.; Temkin, H.; Chu, C. H.; Hseih, Y. F.; Hamm, R. A.; Panish, M. B.; Wade, H. H. |
| 國立臺灣大學 |
1991 |
Semiconductor Lasers Fabricated by Selective Area Epitaxy
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王玉麟; Temkin, H.; Hamm, R. A.; Yadvish, R. D.; Ritter, D.; Harriott, L. H.; Panish, M. B.; Wang, Yuh-Lin; Temkin, H.; Hamm, R. A.; Yadvish, R. D.; Ritter, D.; Harriott, L. H.; Panish, M. B. |
| 國立臺灣大學 |
1990 |
Optical Properties of InGaAs/InP Semiconductor Nanostructures
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王玉麟; Weiner, J. S.; Temkin, H.; Hamm, R. A.; Panish, M. B.; Harriott, L. R.; Wang, Yuh-Lin; Weiner, J. S.; Temkin, H.; Hamm, R. A.; Panish, M. B.; Harriott, L. R. |
| 國立臺灣大學 |
1990 |
Role of Native Oxide Layers in the Patterning of InP Using Focused Ion Beam and Ion Assisted Cl2 Etching
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王玉麟; Harriott, L. R.; Hamm, R. A.; Temkin, H.; Wang, Yuh-Lin; Harriott, L. R.; Hamm, R. A.; Temkin, H. |
| 國立臺灣大學 |
1990 |
Vacuum Lithography for 3-Dimensional Fabrication Using Finely Focused Ion Beams
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王玉麟; Harriott, L. R.; Temkin, H.; Hamm, R. A.; Weiner, J. S.; Wang, Yuh-Lin; Harriott, L. R.; Temkin, H.; Hamm, R. A.; Weiner, J. S. |
| 國立臺灣大學 |
1990 |
Vacuum Lithography for In-Situ Fabrication of Buried Semiconductor Microstructures
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王玉麟; Temkin, H.; Harriott, L. R.; Weiner, J. S.; Hamm, R. A.; Wang, Yuh-Lin; Temkin, H.; Harriott, L. R.; Weiner, J. S.; Hamm, R. A. |
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