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機構	日期	題名	作者
國立成功大學	2002-03	On the high-performance Ti-salicide ULSI CMOS devices prepared by a borderless contact technique and double-implant structure	Thei, Kong-Beng; Chuang, Hung-Ming; Yu, Kuo-Hui; Liu, Wen-Chau; Liu, Rong-Chau; Lin, Kun-Wei; Su, Chi-Wen; Ho, Chin-Shiung; Wuu, Shou-Gwo; Wang, Chung-Shu

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