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臺大學術典藏 2018-09-10T08:40:09Z 利用高介電材料與三五族高電子遷移率通道材料之介面調變工程作為鈍化保護以實現超越矽互補式金氧半場效電晶體技術之研究 Huang, Tsung-Shiew; Hong, Mingwhei; Chang, Pen; Kwo, Jueinai; 張翔筆; Huang, Tsung-Shiew; Hong, Mingwhei; Chang, Pen; Kwo, Jueinai; 張翔筆; MINGHWEI HONG
臺大學術典藏 2018-09-10T08:40:09Z 利用高介電材料與三五族高電子遷移率通道材料之介面調變工程作為鈍化保護以實現超越矽互補式金氧半場效電晶體技術之研究 Huang, Tsung-Shiew; Hong, Mingwhei; Chang, Pen; Kwo, Jueinai; 張翔筆; Huang, Tsung-Shiew; Hong, Mingwhei; Chang, Pen; Kwo, Jueinai; 張翔筆; MINGHWEI HONG
臺大學術典藏 2018-09-10T06:28:14Z Self-aligned inversion n-channel In 0.2 Ga 0.8 As/GaAs MOSFET with TiN gate and Ga 2 O 3 (Gd 2 O 3) dielectric Chen, Chih-Ping; Lin, Tsung-Da; Chang, Yao-Chung; Hong, Mingwhei; Kwo, J Raynien; MINGHWEI HONG

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