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機構	日期	題名	作者
臺大學術典藏	2018-09-10T05:56:09Z	Cubic HfO2 Doped with Y2O3 for Advanced Gate Dielectrics by MBE.	Yang, ZhiKai; Lee, WC; Chang, Pen; Huang, MoLin; Huang, Yi Lin; Hong, Minghwei; Huang, CM; Hsu, CH; Kwo, Raynien; MINGHWEI HONG

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