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臺大學術典藏 2021-08-05T02:40:21Z Poly(styrene)- block-Maltoheptaose Films for Sub-10 nm Pattern Transfer: Implications for Transistor Fabrication L?fstrand A;Jafari Jam R;Mothander K;Nylander T;Mumtaz M;Vorobiev A;Chen W.-C;Borsali R;Maximov I.; L?fstrand A; Jafari Jam R; Mothander K; Nylander T; Mumtaz M; Vorobiev A; Chen W.-C; Borsali R; Maximov I.; WEN-CHANG CHEN
臺大學術典藏 2021-08-05T02:40:21Z Poly(styrene)- block-Maltoheptaose Films for Sub-10 nm Pattern Transfer: Implications for Transistor Fabrication L?fstrand A;Jafari Jam R;Mothander K;Nylander T;Mumtaz M;Vorobiev A;Chen W.-C;Borsali R;Maximov I.; L?fstrand A; Jafari Jam R; Mothander K; Nylander T; Mumtaz M; Vorobiev A; Chen W.-C; Borsali R; Maximov I.; WEN-CHANG CHEN
臺大學術典藏 2021-08-05T02:40:20Z Sequential infiltration synthesis and pattern transfer using 6 nm half-pitch carbohydrate-based fingerprint block copolymer L?fstrand A;Jafari Jam R;Mumtaz M;Mothander K;Nylander T;Vorobiev A;Rahaman A;Chen W.-C;Borsali R;Maximov I.; L?fstrand A; Jafari Jam R; Mumtaz M; Mothander K; Nylander T; Vorobiev A; Rahaman A; Chen W.-C; Borsali R; Maximov I.; WEN-CHANG CHEN
臺大學術典藏 2021-08-05T02:40:20Z Sequential infiltration synthesis and pattern transfer using 6 nm half-pitch carbohydrate-based fingerprint block copolymer L?fstrand A;Jafari Jam R;Mumtaz M;Mothander K;Nylander T;Vorobiev A;Rahaman A;Chen W.-C;Borsali R;Maximov I.; L?fstrand A; Jafari Jam R; Mumtaz M; Mothander K; Nylander T; Vorobiev A; Rahaman A; Chen W.-C; Borsali R; Maximov I.; WEN-CHANG CHEN

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