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机构	日期	题名	作者
臺大學術典藏	2020-01-13T08:20:48Z	Enhancement of silicon oxidation rate due to tensile mechanical stress	Jia-Yush YenYen, J. Y.;Hwu, J. G.; Yen, J. Y.; Hwu, J. G.; JIA-YUSH YEN
臺大學術典藏	2020-01-13T08:20:47Z	Effect of mechanical stress on characteristics of silicon thermal oxides	Jia-Yush YenYen, J. Y.;Huang, C. H.;Hwu, J. G.; Yen, J. Y.; Huang, C. H.; Hwu, J. G.; JIA-YUSH YEN

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