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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2020-10-05T02:00:32Z	Boosting Ge-epi P-well Mobility & Crystal Quality with Si or Sn Implantation and Melt Annealing	Borland, John; Chaung, Shang-Shuin; Tseng, Tseung-Yuen; Joshi, Abhij Eet; Basol, Bulent; Lee, Yao-Jen; Kuroi, Takashi; Tabata, Toshiyuki; Huet, Karim; Goodman, Gary; Khapochkina, Nadya; Buyuklimanli, Temel

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