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國立交通大學 2014-12-08T15:03:36Z THE PROCESSING WINDOWS FOR SELECTIVE COPPER CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION FROM CU(HEXAFLUOROACETYLACETONATE)TRIMETHYLVINYLSILANE CHIOU, JC; JUANG, KC; CHEN, MC
國立交通大學 2014-12-08T15:03:18Z TIW(N) AS DIFFUSION-BARRIERS BETWEEN CU AND SI CHIOU, JC; JUANG, KC; CHEN, MC

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