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機構	日期	題名	作者
國立交通大學	2014-12-08T15:03:36Z	THE PROCESSING WINDOWS FOR SELECTIVE COPPER CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION FROM CU(HEXAFLUOROACETYLACETONATE)TRIMETHYLVINYLSILANE	CHIOU, JC; JUANG, KC; CHEN, MC
國立交通大學	2014-12-08T15:03:18Z	TIW(N) AS DIFFUSION-BARRIERS BETWEEN CU AND SI	CHIOU, JC; JUANG, KC; CHEN, MC

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