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机构 日期 题名 作者
國立臺灣科技大學 2006 Effects of a lightly-doped-drain (LDD) implantation condition on the device characteristics of polycrystalline-Si thin-film transistors Juang, M.-H.;Chiu, Y.-M.
國立臺灣科技大學 2006 Formation of Mo gate electrode with adjustable work function on thin Ta2O5 high-k dielectric films Juang, M.H.;Lin, T.Y.;Jang, S.L.
國立臺灣科技大學 2001 Effects of post oxygen plasma treatment on Pt/(Ba,Sr)TiO3/Pt capacitors at low substrate temperatures Juang, M.H.;Hwang, C.C.;Cheng, H.C.
國立臺灣科技大學 1999-07 Various effects of silicidation on shallow p+ junctions formed by BF2+ implantation into thin poly-Si films on Si substrates Juang, M.H.

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