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机构	日期	题名	作者
國立臺灣大學	2005-02	5 nm Ruthenium Thin Film as a Directly Plateable Copper Diffusion Barrier	Arunagiri, TN; Zhang, Y; Chyan, O; El-Bouanani, M; Kim, MJ; Chen, KH; Wu, CT; Chen, LC

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