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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2019-10-05T00:08:38Z	Atomic layer defect-free etching for germanium using HBr neutral beam	Fujii, Takuya; Ohori, Daisuke; Noda, Shuichi; Tanimoto, Yosuke; Sato, Daisuke; Kurihara, Hideyuki; Mizubayashi, Wataru; Endo, Kazuhiko; Li, Yiming; Lee, Yao-Jen; Ozaki, Takuya; Samukawa, Seiji

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