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机构 日期 题名 作者
國立交通大學 2014-12-08T15:03:01Z Selective tungsten CVD on submicron contact hole Yeh, WK; Chen, MC; Wang, PJ; Liu, LM; Lin, MS
國立交通大學 2014-12-08T15:03:01Z Thermal stability of AlSiCu/W/n(+)p diodes with and without TiN barrier layer Yeh, WK; Chen, MC; Wang, PJ; Liu, LM; Lin, MS
國立交通大學 2014-12-08T15:02:27Z Enhanced metalorganic chemical vapor deposition titanium nitride film fabricated using tetrakis-dimethylamino-titanium for barrier metal application in sub-half-micron technology Wang, CK; Liu, LM; Liao, M; Cheng, HC; Lin, MS
國立交通大學 2014-12-08T15:02:22Z Deposition properties of selective tungsten chemical vapor deposition Yeh, WK; Chen, MC; Wang, PJ; Liu, LM; Lin, MS

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