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機構 日期 題名 作者
國立交通大學 2014-12-08T15:46:07Z Effectively blocking copper diffusion at low-k hydrogen silsesquioxane/copper interface Liu, PT; Chang, TC; Yang, YL; Cheng, YF; Shih, FY; Lee, JK; Tsai, E; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:46:05Z The novel precleaning treatment for selective tungsten chemical vapor deposition Chang, TC; Mor, YS; Liu, PT; Sze, SM; Yang, YL; Tsai, MS; Chang, CY
國立交通大學 2014-12-08T15:45:53Z Reliability of multistacked chemical vapor deposited Ti/TiN structure as the diffusion barrier in ultralarge scale integrated metallization Liu, PT; Chang, TC; Hu, JC; Yang, YL; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:45:43Z Enhancement of barrier properties in chemical vapor deposited TiN employing multi-stacked Ti/TiN structure Chang, TC; Liu, PT; Yang, YL; Hu, JC; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:45:40Z Improvement on intrinsic electrical properties of low-k hydrogen silsesquioxane/copper interconnects employing deuterium plasma treatment Liu, PT; Chang, TC; Yang, YL; Cheng, YF; Lee, JK; Shih, FY; Tsai, E; Chen, G; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:44:50Z Effects of NH3-plasma nitridation on the electrical characterizations of low-k hydrogen silsesquioxane with copper interconnects Liu, PT; Chang, TC; Yang, YL; Cheng, YF; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:44:42Z Improvement of post-chemical mechanical planarization characteristics on organic low k methylsilsesquioxane as intermetal dielectric Liu, PT; Chang, TC; Huang, MC; Yang, YL; Mor, YS; Tsai, MS; Chung, H; Hou, J; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:43:55Z Elimination of dielectric degradation for chemical-mechanical planarization of low-k hydrogen silisesquioxane Chang, TC; Liu, PT; Tsai, TM; Yeh, FS; Tseng, TY; Tsai, MS; Chen, BC; Yang, YL; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:43:42Z Highly reliable chemical-mechanical polishing process for organic low-k methylsilsesquioxane Liu, PT; Chang, TC; Huang, MC; Tsai, MS; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:43:16Z Enhancing the resistance of low-k hydrogen silsesquioxane (HSQ) to wet stripper damage Chang, TC; Mor, YS; Liu, PT; Tsai, TM; Chen, CW; Mei, YJ; Sze, SM

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