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机构 日期 题名 作者
國立交通大學 2014-12-12T02:19:39Z 應用光學鄰近效應修正與實驗設計法於製程寬容度最適化 曾秀平; Zeng, Xiu-Ping; 龍文安; Long, Wen-An
國立交通大學 2014-12-12T02:11:29Z Study on anew type phase shifting mask for 0.35μm pattern transfer 周岳霖; Zhou, Yue-Lin; 龍文安; Long, Wen-An
國立交通大學 2014-12-12T02:10:06Z 矽氧化物之氧電漿改質 許保陽; Xu, Bao-Yang; 龍文安; Long, Wen-An
國立交通大學 2014-12-12T02:10:06Z Plasma etching of Si and polycrystalline silicon with CCl□ F and its mixture gases 王芳崇; Wang, Fang-Chong; 龍文安; Long, Wen-An
國立交通大學 2014-12-12T02:09:56Z 運用氫電漿前處理對離子植入負型阻劑之氧電漿清除的探討 林璧君; LIN, BI-JUN; 龍文安; LONG, WEN-AN
國立交通大學 2014-12-12T02:09:55Z 以三氯氟甲烷及其混合氣體對矽與多晶矽的電漿蝕刻 王芳崇; WANG, FANG-CHONG; 龍文安; LONG, WEN-AN
國立交通大學 2014-12-12T02:09:51Z 矽氧化物之氧電漿改質 許保陽; XU, BAO-YANG; 龍文安; LONG, WEN-AN
國立交通大學 2014-12-12T02:09:48Z 以CF□/CHF□/O□或CF□/NF□/O□對二氧化矽與經離子佈植的多晶矽之乾式蝕刻 劉岳良; LIU, YUE-LIANG; 龍文安; LONG, WEN-AN
國立交通大學 2014-12-12T02:08:44Z 氮化鈦薄膜做為次微米微影成像抗反射層之性質與影響 邱國鼎; QIU,GUO-DING; 龍文安; LONG,WEN-AN
國立交通大學 2014-12-12T02:08:43Z 以氧電漿氧化砷化鎵所生成之氧化層做為抗反射層及原位光罩 張宏隆; ZHANG,HONG-LONG; 龍文安; LONG,WEN-AN

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