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"long wen an"
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| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:55Z |
以三氯氟甲烷及其混合氣體對矽與多晶矽的電漿蝕刻
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王芳崇; WANG, FANG-CHONG; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:51Z |
矽氧化物之氧電漿改質
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許保陽; XU, BAO-YANG; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:48Z |
以CF□/CHF□/O□或CF□/NF□/O□對二氧化矽與經離子佈植的多晶矽之乾式蝕刻
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劉岳良; LIU, YUE-LIANG; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:44Z |
氮化鈦薄膜做為次微米微影成像抗反射層之性質與影響
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邱國鼎; QIU,GUO-DING; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:43Z |
以氧電漿氧化砷化鎵所生成之氧化層做為抗反射層及原位光罩
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張宏隆; ZHANG,HONG-LONG; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:43Z |
以氫電漿前處理強化氧電漿對離子植入負型阻劑之清除
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顏明碩; YAN,MING-SHUO; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:43Z |
交聯反應對乾式顯影表面選擇性強化之影響
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朱政宇; ZHU,ZHENG-YU; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:43Z |
單層阻劑以鉀離子與矽化物進行物進行乾式顯影表面選擇性強化之機理探討
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王嘉蓮; WANG,JIA-LIAN; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:42Z |
CCl F 及CHF 氣體在活性離子蝕刻系統中對Si及SiO 表面之蝕刻及成膜行為
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陳俊麟; CHEN,JUN-LIN; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:42Z |
Poly(tutene-1 sulfone)作為深紫外光正型阻劑及其氮電漿表面改質之研究
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張憲武; ZHANG,XIAN-WU; 龍文安; LONG,WEN-AN |
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