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機構 日期 題名 作者
國立交通大學 2014-12-08T15:05:05Z TITANIUM MONONITRIDE AS AN ANTIREFLECTION LAYER ON ALUMINUM METALLIZATION FOR SUBMICRON PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERNING LOONG, WA; CHIU, KD
國立交通大學 2014-12-08T15:04:50Z POLY(DIMETHYL-CO-DIPHENYLSILANE) AS A DEEP-UV AND AN OXYGEN PLASMA PORTABLE CONFORMABLE MASK LOONG, WA; WANG, TH
國立交通大學 2014-12-08T15:04:35Z ENHANCED O2 PLASMA STRIPPING OF P+ AND SI+ IMPLANTED NEGATIVE RESIST BY H2 PLASMA PRETREATMENT LOONG, WA; YEN, MS; WANG, FC; HSU, BY; LIU, YL
國立交通大學 2014-12-08T15:04:14Z CROSS SHAPED PATTERN ON CHROME MASK FOR 0.5 MU-M CONTACT HOLE FABRICATION LOONG, WA; SHY, SL; GUO, GC; YANG, MT; SU, SY
國立交通大學 2014-12-08T15:03:33Z 0.35-MU-M PATTERN FABRICATION USING QUARTZ-ETCH ATTENUATE PHASE-SHIFTING MASK IN AN I-LINE STEPPER WITH A 0.50-NA AND A 0.60-SIGMA LOONG, WA; SHY, SL; LIN, YC
國立交通大學 2014-12-08T15:02:59Z TiNx as a new embedded material for attenuated phase shift mask Loong, WA; Chen, TC; Tseng, JC
國立交通大學 2014-12-08T15:02:03Z Study on optimization of annular off-axis illumination using Taguchi method for 0.35 mu m dense line/space Loong, WA; Tseng, JC; Chen, TC; Lung, CA

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