| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:34:53Z |
193奈米微影解像度增進技術---高透射率嵌附層之研製、應用探討與模擬
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:33:37Z |
高透射率嵌附層、唯相移層、極短紫外光反射式圖罩吸收層與緩衝層之材料、電漿蝕刻與性質探討(I)
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:32:33Z |
193奈米微影用嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:32:12Z |
193奈米微影高透射率嵌附層應用於透射率控制圖罩之模擬、材料、蝕刻與性質探討
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:30:11Z |
193奈米高透射率嵌附層之研製與應用於橫電偏振光、偏軸發光、減光型相移圖罩組合之濕浸式微影成像特性模擬探討
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:29:32Z |
193奈米高透射率嵌附層之研製與作為濕浸式微影光學鄰近效應修正用散條之性質探討
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:31:26Z |
多孔性低介材SiOC研究與探討
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陳尹川; Chen Yin-chuan; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:31:26Z |
高密度電漿化學氣相沉積製備低介材SiOC:H 之薄膜特性研究
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蔡元浩; Tsai Yuan-hau; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:29:01Z |
以實驗設計法探討高透射率減光型相移圖罩最適化
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林賢雲; Lin Hsien-yun; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:29:01Z |
鉬矽氧嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
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陳玉蓉; Chen Yu-rung; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:29:01Z |
氮電漿處理低介材HSQ應用於銅金屬製程之薄膜特性研究
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陳建帆; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:21:34Z |
鉻矽氮類嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
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呂奎亮; Leu Kwei-liang; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:19:40Z |
鋁氧氮嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
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蘇炳聖; Su, Bing-Sheng; 莊亨立; 龍文安; Henry Tan; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:19:40Z |
鉻鋁氧類及氮化矽類嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
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張克文; Chang, Keh-Wen; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:18:13Z |
深紫外光化學放大阻劑性質探討
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蘇丁泰; Sue, Din-Tai; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:18:12Z |
鈦矽氧類嵌附減光式相移圖罩之研製與模擬
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陳志葦; Chen, Chih-Wei; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:18:12Z |
電子束微影鄰近效應參數測定與鄰近效應修正之研究
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吳玫真; Wu, Mei-Jen; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:16:11Z |
應用光學近距效應修正之減光式相移光罩搭配環形偏軸發光與傳統發光最適化模擬與研究
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林仁章; Lin, Ren-Jang; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:39Z |
緣邊式相移光罩之模擬與研製
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葉青樺; Yeh Chin-hwa; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:53Z |
次微米鉻膜及相轉移光罩之研究
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郭貴琦; Guo, Guey Chi; 龍文安; Loong, Wen An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:52Z |
0.35 微米新型相轉移光罩之研究
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周岳霖; Chou,Yueh Lin; 龍文安; Loong,Wen An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:07:56Z |
減光型相移圖罩材質研究與二孔偏軸發光成像模擬
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林志鴻; Lin Chih-hung; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T01:30:46Z |
模擬探討以減光-緣邊-外架型相移圖罩製備45奈米接觸孔與以散條提升28奈米線焦深
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林建維; Lin, Chien-Wei; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T01:17:21Z |
模擬探討以散條提升32奈米線幅禁止間距焦深
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黃志全; Huang Chih-chuan; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:16:09Z |
Simulation for optimization of mask error enhancement factor by design of experiments in both dry and immersion ArF lithography
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Yeh, Kwei-Tin; Lin, Chih-Hung; Hu, Ji-Ren; Loong, Wen-An |
