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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2015-07-21T08:30:57Z	Investigation of TMAl preflow to the properties of AlN and GaN film grown on Si(111) by MOCVD	Lumbantoruan, Franky; Wong, Yuan-Yee; Wu, Yue-Han; Huang, Wei-Ching; Shrestra, Niraj Man; Luong, Tung Tien; Tran Binh Tinh; Chang, Edward Yi

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