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教育部委托研究计画 计画执行:国立台湾大学图书馆
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"nandi s k"的相关文件
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| 國立交通大學 |
2017-04-21T06:49:08Z |
High temperature electrical properties of ultra thin Ta2O5 films on ZnO/n-Si heterolayrs
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Nandi, S. K.; Tiwari, Jitendra N. |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:13:55Z |
Structural and optical properties of ZnO films grown on silicon and their applications in MOS devices in conjunction with ZrO(2)as a gate dielectric
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Nandi, S. K.; Chakraborty, S.; Bera, M. K.; Maiti, C. K. |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:13:03Z |
TiO2/GeOxNy stacked gate dielectrics for Ge-MOSFETs
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Bera, M. K.; Mahata, C.; Chakraborty, A. K.; Nandi, S. K.; Tiwari, Jitendra N.; Hung, Jui-Yi; Maiti, C. K. |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:12:54Z |
Facile synthesis of continuous Pt island networks and their electrochemical properties for methanol electrooxidation
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Tiwari, Jitendra N.; Pan, Fu-Ming; Tiwari, Rajanish N.; Nandi, S. K. |
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