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机构	日期	题名	作者
國立成功大學	2009-12-25	Effect of the target shuttering on the characteristics of the Ta-Si-N thin films by reactive magnetron co-sputtering	Chung, Chen-Kuei; Chen, T. S.; Nautiyal, A.; Chang, N. W.; Hung, S. T.
國立成功大學	2008-09-21	Grain boundary scattering for temperature coefficient of resistance (TCR) behaviour of Ta-Si-N thin films	Chung, Chen-Kuei; Nautiyal, A.; Chen, T. S.; Chang, Y. L.

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