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机构	日期	题名	作者
中國文化大學	2011-02	Bias voltage effect on the structure and property of the (Ti:Cu)-DLC films fabricated by cathodic arc plasma	o, JY (Jao, Jui-Yun); Han, S (Han, Sheng); Yen, CC (Yen, Chung-Chih); Liu, YC (Liu, Yu-Ching); Chang, LS (Chang, Li-Shin); Chang, CL (Chang, Chi-Lung); Shih, HC (Shih, Han-C.)

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