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機構	日期	題名	作者
國立交通大學	2014-12-08T15:49:16Z	New insight into the degradation mechanism of nitride spacer with different post-oxide in submicron LDD n-MOSFET's	Yih, CM; Wang, CL; Chung, SS; Wu, CC; Tan, W; Wu, HJ; Pi, S; Huang, D

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