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機構 日期 題名 作者
國立交通大學 2014-12-08T15:27:54Z SIMULATION AND FABRICATION OF A NEW PHASE-SHIFTING MASK FOR 0.35 MU-M CONTACT HOLE PATTERN TRANSFER - HALF-TONE-RIM LOONG, WA; SHY, SL; GUO, GC; CHOU, YL
國立交通大學 2014-12-08T15:27:43Z SIMULATION STUDY OF A NEW PHASE-SHIFTING MASK - HALFTONE-RIM LOONG, WA; YEH, CH; SHY, SL
國立交通大學 2014-12-08T15:04:14Z CROSS SHAPED PATTERN ON CHROME MASK FOR 0.5 MU-M CONTACT HOLE FABRICATION LOONG, WA; SHY, SL; GUO, GC; YANG, MT; SU, SY
國立交通大學 2014-12-08T15:03:33Z 0.35-MU-M PATTERN FABRICATION USING QUARTZ-ETCH ATTENUATE PHASE-SHIFTING MASK IN AN I-LINE STEPPER WITH A 0.50-NA AND A 0.60-SIGMA LOONG, WA; SHY, SL; LIN, YC
國立交通大學 2014-12-08T15:02:13Z A simple fabrication process of T-shaped gates using a deep-UV/electron-beam/deep-UV tri-layer resist system and electron-beam lithography Lai, YL; Chang, EY; Chang, CY; Yang, HPD; Nakamura, K; Shy, SL

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