English  |  正體中文  |  简体中文  |  總筆數 :2852366  
造訪人次 :  44964149    線上人數 :  1684
教育部委託研究計畫      計畫執行:國立臺灣大學圖書館
 
臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)
關於TAIR

瀏覽

消息

著作權

相關連結

"steve s chung"的相關文件

回到依作者瀏覽
依題名排序 依日期排序

顯示項目 11-35 / 37 (共2頁)
1 2 > >>
每頁顯示[10|25|50]項目

機構 日期 題名 作者
國立交通大學 2014-12-12T02:23:59Z 不同界面層與環狀植入對高介電氧化層CMOS元件可靠性影響之研究 李冠德; Guan-De Lee; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:23:21Z 以基極偏壓增強熱電子注入操作的快閃式記憶元件可靠性研究 羅思覺; Sze-Jua Luo; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:23:17Z 不同浮動閘極材料N通道快閃記憶體資料保存特性研究 吳柏璋; Bo-chang Wu; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:23:17Z 電荷幫浦法於薄閘極氧化層淺接面延伸結構之N型金氧半元件電漿蝕刻傷害之研究 高瑄苓; Hsuan-ling Kao; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:20:51Z N與P通道快閃記憶體性能與可靠性之比較研究 廖勝泰; Shen-Tai Liaw; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:20:51Z 利用P型浮動閘極材料改善N通道快閃記憶體的性能與可靠性之研究 何之浩; Zhi-Hao Ho; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:20:51Z 可用於快閃式記憶體反覆寫入抹除前後之直流與暫態模式 吳尚修; Shang-Hsiu Wu; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:20:51Z 淺凹槽隔離深次微米互補金氧半元件窄寬度效應熱載子可靠性的研究 楊文杰; Wen-Jei Yang; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:20:50Z 快閃式記憶元件中熱載子注入導致的可靠性問題研究 易成名; Cherng-Ming Yih; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:17:33Z 高介電係數夾層LDD N型金氧半元件可靠性設計之探討 王政烈; Wang, Cheng-Lieh; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:17:32Z P通道金屬半快閃式記憶體中不同程式化的可靠性評估 郭松年; Kuo, Song-Nian; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:15:40Z 次微米MOS元件中熱電子導致氧化層傷害及元件特性退化分析 李建宏; Lee, Giahn-Horng; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:15:38Z 供電路模擬器SPICE使用之複晶矽薄膜電晶體模式 鄭基廷; Cheng, Chi-Ting; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:15:32Z 半空乏型矽氧化絕緣基片MOS元件之熱電子可靠性 葉俊祺; Yeh, Jun-Chyi; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:12:11Z VLSI可靠性中由熱載子產生氧化層傷害的模式與模擬 蘇振順; jen-Shien Su; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:10:43Z 超大型積體電路類比數位混合式模擬器之設計 白祥麟; Jony Shiang Lin Bie; 莊紹勳; Steve S.Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:10:42Z 次微米MOS元件中因熱載子效應引起氧化層傷害之探討 唐嘉宏; Chia-Hung Tung; 莊紹勳; Steve S.Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:10:42Z 次微米大斜角植入式金氧半元件之特性分析與設計準則 周鵬程; Peng-Cheng Chou; 莊紹勳; Steve S.Chung
國立交通大學 2014-12-12T02:09:58Z LOCOS閘極結構次微米金氧半元件的模式研究 張儉華; Chang, Chien-Hwa; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T01:34:13Z 先進氮化超薄氧化層及堆疊氧化層結構CMOS元件在熱載子與高溫負偏壓操作下的探討 顧子強; Zi-Qiang Ku; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T01:32:05Z 先進互補式金氧半元件的閘極層厚度1nm範圍下之低漏電電荷幫浦量測技術 馮信榮; Feng Hsin Jung; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T01:13:51Z 以鉿為基底之高介電常數閘極介電層之N通道金氧半電晶體可靠度探討 曾友良; Yu-Liang Tseng; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T01:13:49Z 探討高閘極介電層N通道金氧半電晶體的新穎閘極電流隨機電報量測法 張家銘; Chia-Ming Chang; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T01:13:48Z 二位元SONOS快閃式記憶體之物理機制與可靠性探討 郭建鴻; Jian-Hung Kuo; 莊紹勳; Steve S. Chung
國立交通大學 2014-12-12T01:13:44Z 奈米應變矽元件載子傳輸模型分析與其可靠度相關性探討 張文彥; Derrick W. Chang; 莊紹勳; Steve S. Chung

顯示項目 11-35 / 37 (共2頁)
1 2 > >>
每頁顯示[10|25|50]項目