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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2019-12-13T01:12:23Z	Enhancing the Seebeck effect in Ge/Si through the combination of interfacial design features	Nadtochiy, Andriy; Kuryliuk, Vasyl; Strelchuk, Viktor; Korotchenkov, Oleg; Li, Pei-Wen; Lee, Sheng-Wei

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