English  |  正體中文  |  简体中文  |  总笔数 :2853327  
造访人次 :  44983938    在线人数 :  1369
教育部委托研究计画      计画执行:国立台湾大学图书馆
 
臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)
关于TAIR

浏览

消息

著作权

相关连结

"sze sm"的相关文件

回到依作者浏览
依题名排序 依日期排序

显示项目 11-20 / 83 (共9页)
<< < 1 2 3 4 5 6 7 8 9 > >>
每页显示[10|25|50]项目

机构 日期 题名 作者
國立交通大學 2014-12-08T15:45:53Z Reliability of multistacked chemical vapor deposited Ti/TiN structure as the diffusion barrier in ultralarge scale integrated metallization Liu, PT; Chang, TC; Hu, JC; Yang, YL; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:45:43Z Enhancement of barrier properties in chemical vapor deposited TiN employing multi-stacked Ti/TiN structure Chang, TC; Liu, PT; Yang, YL; Hu, JC; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:45:40Z Improvement on intrinsic electrical properties of low-k hydrogen silsesquioxane/copper interconnects employing deuterium plasma treatment Liu, PT; Chang, TC; Yang, YL; Cheng, YF; Lee, JK; Shih, FY; Tsai, E; Chen, G; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:45:26Z Characterization of NH3 plasma-treated Ba0.7Sr0.3TiO3 thin films Wuu, DS; Horng, RH; Liao, FC; Leu, CC; Huang, TY; Sze, SM; Chen, HY; Chang, CY
國立交通大學 2014-12-08T15:45:26Z Effects of O-2 plasma treatment on the electric and dielectric characteristics of Ba0.7Sr0.3TiO3 thin films Leu, CC; Chan, SH; Chen, HY; Horng, RH; Wuu, DS; Wu, LH; Huang, TY; Chang, CY; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:44:50Z Effects of NH3-plasma nitridation on the electrical characterizations of low-k hydrogen silsesquioxane with copper interconnects Liu, PT; Chang, TC; Yang, YL; Cheng, YF; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:44:42Z Improvement of post-chemical mechanical planarization characteristics on organic low k methylsilsesquioxane as intermetal dielectric Liu, PT; Chang, TC; Huang, MC; Yang, YL; Mor, YS; Tsai, MS; Chung, H; Hou, J; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:44:23Z Energy and coordinate dependent effective mass and confined electron states in quantum dots Li, YM; Voskoboynikov, O; Lee, CP; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:44:15Z 1.55-mu m and infrared-band photoresponsivity of a Schottky barrier porous silicon photodetector Lee, MK; Chu, CH; Wang, YH; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:43:55Z Elimination of dielectric degradation for chemical-mechanical planarization of low-k hydrogen silisesquioxane Chang, TC; Liu, PT; Tsai, TM; Yeh, FS; Tseng, TY; Tsai, MS; Chen, BC; Yang, YL; Sze, SM

显示项目 11-20 / 83 (共9页)
<< < 1 2 3 4 5 6 7 8 9 > >>
每页显示[10|25|50]项目