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机构	日期	题名	作者
國立成功大學	2006-06	HfAlON n-MOSFETs incorporating low-work function gate using ytterbium silicide	Wu, C. H.; Hung, B. F.; Chin, Albert; Wang, Shui-Jinn; Yen, F. Y.; Hou, Y. T.; Jin, Y.; Tao, H. J.; Chen, S. C.; Liang, M. S.

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