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机构	日期	题名	作者
東海大學	2002	Hot carrier degradation in deep sub-micron nitride spacer lightly doped drain N-channel metal-oxide-semiconductor transistors	Tsai, J.-L.a, Huang, K.-Y.a, Lai, J.-H.b, Gong, J.a, Yang, F.-J.b, Lin, S.-Y.a
東海大學	2002	The study of threshold voltage extraction of nitride spacer NMOS transistors in early stage hot carrier stress	Tsai, J.-L.a, Huang, K.-Y.a, Lai, J.-H.a, Gong, J.a, Yang, F.-J.b, Lin, S.-Y.b

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