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機構 日期 題名 作者
國立交通大學 2014-12-08T15:43:39Z Selective copper metallization by electrochemical contact displacement with amorphous silicon film Lee, YP; Tsai, MS; Hu, TC; Dai, BT; Feng, MS
國立交通大學 2014-12-08T15:42:47Z Electrochemical behavior of copper chemical mechanical polishing in KIO3 slurry Hsu, JW; Chiu, SY; Tsai, MS; Dai, BT; Feng, MS; Shih, HC
國立交通大學 2014-12-08T15:42:45Z The removal selectivity of titanium and aluminum in chemical mechanical planarization Hsu, JW; Chiu, SY; Wang, YL; Dai, BT; Tsai, MS; Feng, MS; Shih, HC
國立交通大學 2014-12-08T15:42:21Z Expression, characterization, and purification of recombinant porcine lactoferrin in Pichia pastoris Wang, SH; Yang, TS; Lin, SM; Tsai, MS; Wu, SC; Mao, SJT
國立交通大學 2014-12-08T15:40:06Z The application of electrochemical metrologies for investigating chemical mechanical polishing of Al with a Ti barrier layer Chiu, SY; Wang, YL; Liu, CP; Lan, JK; Ay, C; Feng, MS; Tsai, MS; Dai, BT
國立交通大學 2014-12-08T15:39:17Z The removal of airborne molecular contamination in cleanroom using PTFE and chemical filters Yeh, CF; Hsiao, CW; Lin, SJ; Hsieh, CM; Kusumi, T; Aomi, H; Kaneko, H; Dai, BT; Tsai, MS
國立交通大學 2014-12-08T15:37:19Z Post-Cu CMP cleaning for colloidal silica abrasive removal Chen, PL; Chen, JH; Tsai, MS; Dai, BT; Yeh, CF
國立交通大學 2014-12-08T15:36:01Z Pattern effect optimized with non-native surface passivation in copper abrasive-free polishing Fang, JY; Tsai, MS; Dai, BT; Wu, YS; Feng, MS
國立交通大學 2014-12-08T15:27:11Z A study on electrochemical metrologies for evaluating the removal selectivity of AlCMP Chiu, SY; Hsu, JW; Tung, IC; Shih, HC; Feng, MS; Tsai, MS; Dai, BT
國立交通大學 2014-12-08T15:27:05Z Study on chemical-mechanical polishing of low dielectric constant polyimide thin films Tai, YL; Tsai, MS; Tung, IC; Dai, BT; Feng, MS

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