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機構 日期 題名 作者
淡江大學 2006-06 Effects of Nonionic Surfactants on Performance of Copper Chemical Mechanical Polishing Tsai, Tzu-hsuan; Wu, Y. F.
淡江大學 2005-05 Glycolic Acid in Hydrogen Peroxide-Based Slurry for Enhancing Copper Chemical Mechanical Polishing Tsai, Tzu-hsuan; Wu,Y. F.; Yen, S. C.
國立臺灣大學 2005 Glycolic acid in hydrogen peroxide-based slurry for enhancing copper chemical mechanical polishing Tsai, Tzu-Hsuan; Wu, Yung-Fu; Yen, Shi-Chern
淡江大學 2004-12-03 Apparatus of Ion Sensitive Thin Film Transistor and Method of Manufacturing of the Same 蔡子萱; Tsai, Tzu-hsuan; Wu, Yung-fu
淡江大學 2003-05 A study of copper chemical mechanical polishing in urea–hydrogen peroxide slurry by electrochemical impedance spectroscopy Tsai, Tzu-hsuan; Wu, Yung-fu; Yen, Shi-chern
淡江大學 2003-04-15 Localized Corrosion Effects and Modifications of Acidic and Alkaline Slurries on Copper Chemical Mechanical Polishing Tsai, Tzu-hsuan; Yen, Shi-chern
國立臺灣大學 2003 Localized corrosion effects and modifications of acidic and alkaline slurries on copper chemical mechanical polishing Tsai, Tzu-Hsuan; Yen, Shi-Chern
國立臺灣大學 2003 A study of copper chemical mechanical polishing in urea–hydrogen peroxide slurry by electrochemical impedance spectroscopy Tsai, Tzu-Hsuan; Wu, Yung-Fu; Yen, Shi-Chern

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