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國立交通大學 2014-12-08T15:22:23Z Resistive switching characteristics of multilayered (HfO2/Al2O3)(n) n=19 thin film Tzeng, Wen-Hsien; Zhong, Chia-Wen; Liu, Kou-Chen; Chang, Kow-Ming; Lin, Horng-Chih; Chan, Yi-Chun; Kuo, Chun-Chih; Tsai, Feng-Yu; Tseng, Ming Hong; Chen, Pang-Shiu; Lee, Heng-Yuan; Chen, Frederick; Tsai, Ming-Jinn
國立臺灣大學 2012 Resistive switching characteristics of multilayered (HfO2/Al2O3)(n) n=19 thin film Tzeng, Wen-Hsien; Zhong, Chia-Wen; Liu, Kou-Chen; Chang, Kow-Ming; Lin, Horng-Chih; Chan, Yi-Chun; Kuo, Chun-Chih; Tsai, Feng-Yu; Tseng, Ming Hong; Chen, Pang-Shiu; Lee, Heng-Yuan; Chen, Frederick; Tsai, Ming-Jinn
臺大學術典藏 2012 Resistive switching characteristics of multilayered (HfO2/Al2O3)(n) n=19 thin film Tzeng, Wen-Hsien; Zhong, Chia-Wen; Liu, Kou-Chen; Chang, Kow-Ming; Lin, Horng-Chih; Chan, Yi-Chun; Kuo, Chun-Chih; Tsai, Feng-Yu; Tseng, Ming Hong; Chen, Pang-Shiu; Lee, Heng-Yuan; Chen, Frederick; Tsai, Ming-Jinn; Tzeng, Wen-Hsien; Tsai, Feng-Yu et al.

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