English  |  正體中文  |  简体中文  |  總筆數 :2853777  
造訪人次 :  45279643    線上人數 :  923
教育部委託研究計畫      計畫執行:國立臺灣大學圖書館
 
臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)
關於TAIR

瀏覽

消息

著作權

相關連結

"yang yl"的相關文件

回到依作者瀏覽
依題名排序 依日期排序

顯示項目 26-35 / 154 (共16頁)
<< < 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 > >>
每頁顯示[10|25|50]項目

機構 日期 題名 作者
國立交通大學 2014-12-08T15:47:23Z Characterization of multilayered Ti/TiN films grown by chemical vapor deposition Hu, JC; Chang, TC; Chen, LJ; Yang, YL; Chang, CY
國立交通大學 2014-12-08T15:46:25Z Investigation on multilayered chemical vapor deposited Ti TiN films as the diffusion barriers in Cu and Al metallization Hu, JC; Chang, TC; Chen, LJ; Yang, YL; Chen, SY; Chang, CY
國立交通大學 2014-12-08T15:46:15Z Effects of H-2 plasma treatment on low dielectric constant methylsilsesquioxane Chang, TC; Liu, PT; Mei, YJ; Mor, YS; Perng, TH; Yang, YL; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:46:11Z The novel improvement of low dielectric constant methylsilsesquioxane by N2O plasma treatment Chang, TC; Liu, PT; Mor, YS; Sze, SM; Yang, YL; Feng, MS; Pan, FM; Dai, BT; Chang, CY
國立交通大學 2014-12-08T15:46:07Z Effectively blocking copper diffusion at low-k hydrogen silsesquioxane/copper interface Liu, PT; Chang, TC; Yang, YL; Cheng, YF; Shih, FY; Lee, JK; Tsai, E; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:46:05Z The novel precleaning treatment for selective tungsten chemical vapor deposition Chang, TC; Mor, YS; Liu, PT; Sze, SM; Yang, YL; Tsai, MS; Chang, CY
國立交通大學 2014-12-08T15:45:53Z Reliability of multistacked chemical vapor deposited Ti/TiN structure as the diffusion barrier in ultralarge scale integrated metallization Liu, PT; Chang, TC; Hu, JC; Yang, YL; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:45:43Z Enhancement of barrier properties in chemical vapor deposited TiN employing multi-stacked Ti/TiN structure Chang, TC; Liu, PT; Yang, YL; Hu, JC; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:45:40Z Improvement on intrinsic electrical properties of low-k hydrogen silsesquioxane/copper interconnects employing deuterium plasma treatment Liu, PT; Chang, TC; Yang, YL; Cheng, YF; Lee, JK; Shih, FY; Tsai, E; Chen, G; Sze, SM
國立交通大學 2014-12-08T15:44:50Z Effects of NH3-plasma nitridation on the electrical characterizations of low-k hydrogen silsesquioxane with copper interconnects Liu, PT; Chang, TC; Yang, YL; Cheng, YF; Sze, SM

顯示項目 26-35 / 154 (共16頁)
<< < 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 > >>
每頁顯示[10|25|50]項目